kupować chemical vapor deposition cvd coating furnace, dobra jakość chemical vapor deposition cvd coating furnace producent

Specjalistyczny Cvd Laboratory Vakuum Furnace Chemiczne Depozycja Pary Cvd Coating Furnace

Temperatura procesu ((℃): 700-1050

Rodzaje powłok: TiC, TiN, TiCN, a-AL2O3, K-AI2O3

Najlepszą cenę

MT-CVD HT-CVD piec do powlekania o wysokiej jakości powlekania i dostosowalnym reaktorze

Temperatura powlekania: 200-1050°C

System chłodzenia: 2 zestawy kondensatowych pułapek chłodzonych wodą o wysokiej wydajności

Najlepszą cenę

Popielnia Ceramic CVD dla 700-1050C Temperatura procesu i opcjonalny neutralizator gazowy

Temperatura procesu ((℃): 700-1050

Prekursory i gazy technologiczne: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Najlepszą cenę

Piekarnik do powłoki CVD z kołem ściskającym z prekursorami CO i dystrybutorem gazu drugiego stopnia

Temperatura procesu ((℃): 700-1050

Prekursory i gazy technologiczne: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Najlepszą cenę

Pieczar do powlekania odparowania chemicznego z prekursorami TiCL4, AICL3 i gazami procesowymi

Temperatura procesu ((℃): 700-1050

Prekursory i gazy technologiczne: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Najlepszą cenę

Pieczar do powłoki opalania par chemicznych do narzędzia do cięcia węglowodorów z cementu/wolframu

Temperatura procesu ((℃): 700-1050

Prekursory i gazy technologiczne: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Najlepszą cenę

AICL3 Precursors Piec do osadzenia par chemicznych do narzędzi do cięcia w temperaturze procesu 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Najlepszą cenę

Wideo

RDE Maszyna do powlekania węglem krzemowym Piekarnik do osadzenia par chemicznych CVD

Efektywna przestrzeń (mm): 1000*1000*1500

Moc grzewcza (KVA): 300

Najlepszą cenę

Piece do powlekania CVD węglem krzemowym do podłoża grafitowego lub pierścienia etyrowego

Szczegóły pakowania: Drewniane skrzynki

Czas dostawy: 5-6 miesięcy

Najlepszą cenę

Wideo

Maszyna do powlekania CVD z podgrzewaniem o odporności elektrycznej do powlekania o wysokiej temperaturze do 1000 °C Projekt chiński i kluczowy

Całkowita moc: Około 40/50/60/80 kW

Podłoża powłokowe: Metal, ceramika, szkło itp.

Najlepszą cenę

Zaawansowany piec CVD/CVI do osadzenia par dla powłok TiC TiN TiCN a-AL2O3 i K-AI2O3 w temperaturze procesu 700-1050 °C

Temperatura procesu ((℃): 700-1050

Rodzaje powłok: TiC, TiN, TiCN, a-AL2O3, K-AI2O3

Najlepszą cenę

Wideo

Komora do pokrycia stopami o temperaturze Wroga elektryczna Piec CVD do ogrzewania metali lub podłoża ceramicznego o dostosowalnej wielkości

Metoda powlekania: Chemiczne osadzanie pary (CVD)

Całkowita moc: Około 40/50/60/80 kW

Najlepszą cenę

Wideo

China CVD Manufactures, Maszyna do powlekania węglem krzemowym

Efektywna przestrzeń (mm): 1000*1000*1500

Moc grzewcza (KVA): 300

Najlepszą cenę

Powierzchnia węglowa, w której znajduje się pojemność, nie może być większa niż 100 W.

Strefa grzewcza: 4 sztuk/5 sztuk

Maksymalna temperatura:: 1100℃

Najlepszą cenę

Wideo

1500C CVD SIC Epitaxy Growth Furnace do wzrostu węglanu krzemowego w 100010001500mm Efektywna przestrzeń

Efektywna przestrzeń (mm): 1000*1000*1500

Moc grzewcza (KVA): 300

Najlepszą cenę

Zastosowalny piec CVD z powłoką TiC/TiN/TiCN/Al2O3 o temperaturze procesu 700-1050C

Temperatura procesu ((℃): 700-1050

Rodzaje powłok: TiC, TiN, TiCN, a-AL2O3, K-AI2O3

Najlepszą cenę

chemical vapor deposition cvd coating furnace Producent internetowy

Piec SIP HIP

Piec do spiekania ciśnienia gazu

Piec do spiekania próżniowego

Piec do spiekania MIM

Metalowy piec do spiekania

Przemysłowy piec próżniowy

Wysokotemperaturowy piec próżniowy

Piec próżniowy do obróbki cieplnej

Ceramiczny piec do spiekania

Piec wysokopróżniowy

Sintering Furnace Accessoriesfunction gtElInit() {var lib = new google.translate.TranslateService();

Piec z węglika krzemu

Maszyna do powlekania CVD

Specjalistyczny Cvd Laboratory Vakuum Furnace Chemiczne Depozycja Pary Cvd Coating Furnace

MT-CVD HT-CVD piec do powlekania o wysokiej jakości powlekania i dostosowalnym reaktorze

Popielnia Ceramic CVD dla 700-1050C Temperatura procesu i opcjonalny neutralizator gazowy

Piekarnik do powłoki CVD z kołem ściskającym z prekursorami CO i dystrybutorem gazu drugiego stopnia

Specjalistyczny Cvd Laboratory Vakuum Furnace Chemiczne Depozycja Pary Cvd Coating Furnace

MT-CVD HT-CVD piec do powlekania o wysokiej jakości powlekania i dostosowalnym reaktorze

Popielnia Ceramic CVD dla 700-1050C Temperatura procesu i opcjonalny neutralizator gazowy

Piekarnik do powłoki CVD z kołem ściskającym z prekursorami CO i dystrybutorem gazu drugiego stopnia

Pieczar do powlekania odparowania chemicznego z prekursorami TiCL4, AICL3 i gazami procesowymi

Pieczar do powłoki opalania par chemicznych do narzędzia do cięcia węglowodorów z cementu/wolframu

AICL3 Precursors Piec do osadzenia par chemicznych do narzędzi do cięcia w temperaturze procesu 700-1050 °C

RDE Maszyna do powlekania węglem krzemowym Piekarnik do osadzenia par chemicznych CVD

Piece do powlekania CVD węglem krzemowym do podłoża grafitowego lub pierścienia etyrowego

Maszyna do powlekania CVD z podgrzewaniem o odporności elektrycznej do powlekania o wysokiej temperaturze do 1000 °C Projekt chiński i kluczowy

Zaawansowany piec CVD/CVI do osadzenia par dla powłok TiC TiN TiCN a-AL2O3 i K-AI2O3 w temperaturze procesu 700-1050 °C

Komora do pokrycia stopami o temperaturze Wroga elektryczna Piec CVD do ogrzewania metali lub podłoża ceramicznego o dostosowalnej wielkości

China CVD Manufactures, Maszyna do powlekania węglem krzemowym

Powierzchnia węglowa, w której znajduje się pojemność, nie może być większa niż 100 W.

1500C CVD SIC Epitaxy Growth Furnace do wzrostu węglanu krzemowego w 100010001500mm Efektywna przestrzeń

Zastosowalny piec CVD z powłoką TiC/TiN/TiCN/Al2O3 o temperaturze procesu 700-1050C